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题名: 纳米级ZnO耐晒后处理添加剂的研究
作者: 陈忻 ; 袁毅桦 ; 严凤娟 ; 孙恢礼
关键词: 紫外线屏蔽剂 ZnO ; 日晒牢度
刊名: 毛纺科技
发表日期: 2007-01-01
期: 1, 页:31-33
部门归属: [1]中国科学院南海海洋研究所,广东广州510301 [2]中国科学院研究生院,北京100049 [3]佛山科学技术学院,广东佛山528000
项目归属: LMB
摘要: 以水为介质,采用在分散的悬浮液中加入合适的分散剂的方法,研究了紫外线屏蔽剂ZnO的稳定性及抗紫外线性能。实验结果表明,纳米级ZnO在pH值为10的0.2%聚丙烯酰胺(PAM)溶液中稳定性较好,且以此微乳液作为抗紫外线后加工整理剂处理活性染料的涤棉布料,处理后布料的日晒牢度能达3—4级,比原布提高半级到一级半。
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://ir.scsio.ac.cn/handle/344004/7149
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陈忻;袁毅桦;严凤娟;孙恢礼.纳米级ZnO耐晒后处理添加剂的研究,毛纺科技,2007,(1):31-33
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